VTC-100ML多层钙钛矿旋转涂层机

产品简介

VTC-100ML多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜,半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成;可同时交替涂覆

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更新时间:2025-07-28
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VTC-100ML多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜,半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成;可同时交替涂覆两种薄膜,两种液体各交替最多500次,实现千层薄膜的涂覆。本机可用于酸、碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配不同尺寸的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘,利用真空吸附的方式固定基片。该机主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。


主要特点:

1、真空吸附方式固定样件,操作简便。
2、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。
3、电机采用24V直流无刷电机,可靠性高,适应性强,维修与保养简单,噪音低,震动小,运转平稳,启动快速稳定,加速后运行平稳,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。
4、采用无油真空泵,体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。
5、腔体采用聚四氟乙烯材质,使用寿命更长,耐化学腐蚀性和优异的抗应力开裂性能;机身采用钣金结构,结实耐用且质轻。
6、加热后可通气体进行快速冷却。
7、中文操作界面(全英文操作系统可选)
8、具有开盖保护功能,当涂膜过程中或涂膜结束时打开上盖后机器立刻迅速减速直到停止。
9、控制界面采用触摸屏控制,操作简单方便,显示直观。
10、全自动的涂膜过程:自动滴胶、自动通气、自动旋涂、自动烘干。
11、可两种液体交替涂膜,最多可涂1000层薄膜。


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