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VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不可抽真
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VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不可抽真空,工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度*限速度
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